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【IDF】“开45nm先河” 英特尔公开新处理器Penryn和Silverthorne

DATE	2007/04/20

　　【日经BP社报道】

使用45nm工艺的“Penryn”的试制晶圆

使用45nm工艺制造“Penryn”和“Silverthorne”

“Penryn”产品计划概要。面向服务器和台式机，分别推出了双核产品和四核产品。面向笔记本电脑等移动市场推出了双核产品

在45nm工艺方面新导入了高介电常数（high-k）栅绝缘膜和金属栅

目前，4家工厂正在推进45nm工艺生产线的启动

　　美国英特尔在2007年4月17日于北京开幕的2007年春季开发商论坛（IDF Spring 2007）上，公开了使用45nm工艺技术的微处理器产品系列“Penryn”（开发代号）的试制芯片及投产计划概要。以半导体处理器技术引领企业而自居的英特尔，将当仁不让地开辟45nm工艺的实用化先河。在此次的IDF上，到处充满着英特尔领先前进的气氛。比如，宣布08年将面向超小型个人电脑平台“UMPC（超便携电脑）投放使用45nm工艺的低耗电微处理器“Silverthorne”（开发代号）。

　　“45nm工艺的实用化具有历史性意义。不再像此前那样单纯追求细微化，而是全面改进晶体管结构。”（英特尔）。英特尔此次将在45nm工艺方面新引进高介电常数（high-k）栅门绝缘膜和金属栅门。演讲中反复强调了导入新材料的意义。比如，与65nm工艺相比，除可将导通与截止时的耗电减少30％之外，还有助于减少泄漏电流。可将集成度和导通与截止速度各提高至2倍。英特尔今后投产的45nm工艺产品将全部使用新晶体管技术。

　　英特尔在主题演讲中，还提到了45nm工厂的启动情况。在07年下半年，美国俄勒冈州的“Fab D1D”和亚利桑那州的“Fab 32”将开始投产。另外，在08年上半年，以色列的“Fab 28”将开始投产，在08年下半年，墨西哥的“Fab 11X”将开始投产。（记者：堀切近史）

■日文原文
【【IDF】「45nmで先陣を切る」，新プロセサのPenrynやSilverthorneを公開

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